HD3870作为RV670的最高档的产品，不仅有较高的核心频率而且更使用上DDR4的显存。HD3870在性能上要比HD3850强不少，但是发热量方面同样也比HD3850大，所以公版设计的HD3870都是用体积较大的双插槽散热器。蓝宝作为ATI的重要合作伙伴在显卡的散热器研发上有不少的成果，曾推出不少的水冷、热管甚至半导体制冷的产品。近日蓝宝先市场推出了一款使用新一代业界尖端散热——Vapor Chamber technology的产品HD3870 TOXIC。基于Vapor Chamber均热板技术的Vapor-X散热器只采用单插槽设计，可以大大节省机箱空间，而且有非常好的散热效果。
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HD3870由于频率比较高，公版使用双插槽的散热器，而蓝宝HD3870 TOXIC采用新设计的Vapor-X散热器只用单插槽，这样的设计对散热器的要求相当高，Vapor-X散热器采用Vapor Chamber均热板技术将导热管的设计由管上升到平面。
蓝宝HD3870 TOXIC使用非公版PCB，基于RV670的显示核心，拥有320个流处理器以及256bit的显存带宽，使用上512MB的DDR4显存，核心频率为800MHz。
虽然蓝宝HD3870 TOXIC使用非公版PCB但是做工用了毫不马虎，完全不逊色于公版的HD3870。
拆开散热器后可以看到蓝宝HD3870 TOXIC的用料相当不错，使用上高品质的元件，设计非有大厂风范。
蓝宝HD3870 TOXIC搭配Vapor-X卡的单槽散热系统，可以看到散热器的底部是一块纯铜的散热板。
HD3870 Toxic（毒药）最值得关注的地方还在于蓝宝命名为Vapor-X单槽散热系统上面。其基于Vapor Chamber均热板技术打造。与我们熟悉的柱状高端热管相比，Vapor-X的原理与理论架构是相同的，只有热传导的方式不相同，热管的热传导方式是一维的，是线的热传导方式，而Vapor-X所用的均热板的热传导方式是二维的，是面的热传导方式，效率提高数倍。同时Toxic用的均热板面积相对小和对精度要求极高，对真空腔的制造工艺和良率要求十分苛刻，因为目前产能相当低，成本也价值不菲。
Vapor Chamber均热板技术工作原理：显卡核心产生热能通过大面积均热板迅速吸收和传导，使封装的工质开始运作由液体变化为气体蒸气，将热能带出。气态工质将带出的热能迅速传导到整个封装的铜内腔体中并传导到铝鳍片上。铝鳍片的热能经过风扇强制对流冷却后， 使工质失去热能冷却变化为液态并内腔管壁毛细作用回流到底部，回流到底部后又吸收到新的热能，并再度气化将热带出， 形成一个循环。
整片的散热板间散热范围大大增加，与导热管相比有更加大的吸热和散热面积。
留意散热器座尾部留出短短的热管封口，那是区分均热板与普通产品的重要标志。
散热器采用6CM的散热风扇
